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理想晶延榮獲2018年度上海市科技進步二等獎
來源: | 作者:pro4507d9 | 發布時間: 2019-05-15 | 510 次瀏覽 | 分享到:


20195月,理想晶延半導體設備(上海)有限公司的ALD太陽能電池生產的原子層沉積設備研制項目”,喜獲上海市科技進步二等獎。該重量級獎項設立單位為上海市人民政府,旨在獎勵科學發現和技術發明原始性創新、促進經濟發展方式轉變和培育戰略性產業、促進城市安全、健康生態發展和推進區縣創新能力和經濟發展的重大科技成果。上海市科技進步獎,是省市范疇內對科學技術的最高獎勵之一。
                                  


                                          

           原子層沉積(ALD)技術可以精確控制成膜原子組成,均勻性高,極薄的膜厚即可達到良好的鈍化效果。但是由于成膜速度慢,工業化量產應用一直受到制約。2016年底前,國際國內市場上PERC電池鍍膜核心設備基本被德國MayerBerger公司(以下簡稱MB)和荷蘭Solaytec公司壟斷。兩家公司的市場占有率在90%以上。理想晶延在綜合國外設備優點的基礎上,立足自主創新,通過攻克了多項關鍵技術,創造性的技術設計,開發出全球首創的平板式在線ALD設備,既保持了ALD方式優點,又結合了平板式在線設備運行穩定的優點,克服 ALD設備卡片、碎片的問題, 運行成本和開機率均超過市場上主流國外設備,打破了原來由歐美日等國際設備巨頭的市場壟斷。在2017年取得近30%的市場份額,一舉成為光伏電池鍍膜設備領域里擁有國際領先技術的重要供應商。

                                             

在基于該系列產品的研發過程中,理想晶延研發團隊不斷創新,勇于突破,打破慣性思維,已取得22項發明專利、2項實用新型專利、8項軟件著作權,受理中發明專利6項,各專利技術集中應用于該系列產品中,技術優勢明顯。

   該套設備研制難度大,對于生產要求較高,具有集成度高、涉及行業多的特點,需要社會化大協作才能完成。不僅促進新能源工業的發展,同時也帶動了其相關產業鏈如機械、電子、半導體等行業的發展。同時,展現了理想晶延在先進制造、重大裝備的設計、生產等方面的協作能力。


                                                


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